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加快推進(jìn)納米壓印光刻技術(shù)在光電制造領(lǐng)域的應(yīng)用
兩家市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者開展推廣和技術(shù)合作，通過結(jié)合各自優(yōu)勢(shì)，提供納米壓印光刻技術(shù)開發(fā)工具包，并實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)
奧地利圣弗洛里安和東京2022年9月20日 /美通社/ -- 全球首屈一指的光掩模供應(yīng)商Toppan Photomask Co. Ltd.與為MEMS、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)提供晶圓鍵合及光刻設(shè)備的領(lǐng)先供應(yīng)商EV Group（簡(jiǎn)稱EVG）今天宣布，兩家公司已達(dá)成協(xié)議，共同推廣賦能光電產(chǎn)業(yè)的大批量制造(HVM)工藝—納米壓印光刻技術(shù)(NIL)。
EV Group和Toppan Photomask
此次合作結(jié)合NIL系統(tǒng)的領(lǐng)先供應(yīng)商和開創(chuàng)者與半導(dǎo)體市場(chǎng)的光掩模領(lǐng)先供應(yīng)商的優(yōu)勢(shì)，旨在確立NIL為光電制造的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)工藝，并加速其在HVM中實(shí)施，以支持各種應(yīng)用。這些應(yīng)用包括增強(qiáng)/混合/虛擬現(xiàn)實(shí)耳機(jī)、智能手機(jī)、汽車傳感器和醫(yī)療成像系統(tǒng)。
Toppan Photomask制造的半導(dǎo)體用光掩模，納米壓印光刻(NIL)母版采用同樣的材料、技術(shù)和工藝制造而成。來源：Toppan Photomask。
在EV Group 的NILPhotonics®能力中心，工藝工程師正在檢查200mm晶圓，該晶圓上的超構(gòu)透鏡是用Toppan Photomask生產(chǎn)的母版及EVG的納米壓印光刻(NIL)工藝復(fù)制而成。來源：EV Group。
作為此次非排他性合作的一部分，EVG和Toppan Photomask將結(jié)合各自的知識(shí)、專長(zhǎng)和服務(wù)，利用Toppan Photomask提供的主模板和EVG提供的設(shè)備及工藝開發(fā)服務(wù)，提供NIL開發(fā)工具包，以進(jìn)一步推廣NIL技術(shù)并提高將該技術(shù)應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)的可能性。EVG還將在其位于奧地利總部的EVG NILPhotonics®能力中心，面向感興趣的公司提供NIL技術(shù)和產(chǎn)品演示。此外，對(duì)于有意在生產(chǎn)過程中使用NIL技術(shù)的企業(yè)，兩家公司都將對(duì)方指定為首選推薦的供應(yīng)鏈合作伙伴。
Toppan Photomask Co. Ltd.首席技術(shù)官全燦旭(Chan-Uk Jeon)表示：“Toppan Photomask非常高興能與EVG合作。EVG的NIL工具和加工能力是世界一流的，將提高光電技術(shù)和其他將采用NIL技術(shù)的新技術(shù)成本效益。Toppan Photomask認(rèn)為，兩家公司都具有顯著的優(yōu)勢(shì)，在此推動(dòng)下，NIL技術(shù)有著良好的發(fā)展前景，有望成為另一種成功的光刻解決方案?！?/p>
實(shí)現(xiàn)納米壓印光刻技術(shù)成為主流制造技術(shù)
在創(chuàng)建任意形狀的精細(xì)圖案（如超構(gòu)透鏡）的未來應(yīng)用方面，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已達(dá)到了極限。NIL是一種公認(rèn)且具有成本效益的工藝，可在復(fù)雜的結(jié)構(gòu)上生成納米級(jí)分辨率的圖案，因此是這些應(yīng)用的可行替代方案。NIL可以非常有效地大面積復(fù)制這些復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，設(shè)計(jì)限制較少，且工藝流程非常精簡(jiǎn)，因此非常適用于原型設(shè)計(jì)和HVM。
20多年來，EVG一直是NIL技術(shù)領(lǐng)域的開創(chuàng)者，通過與光學(xué)材料（如粘合劑和抗蝕劑）、基板材料和印章生產(chǎn)供應(yīng)商，以及光學(xué)元件和設(shè)備制造商等整個(gè)NIL供應(yīng)鏈中的企業(yè)合作，為打造更加廣泛的NIL生態(tài)系統(tǒng)做出貢獻(xiàn)。EVG和Toppan Photomask分別是光刻和光掩模制造領(lǐng)域的知名行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者，兩家公司通過合作，旨將NIL作為光電行業(yè)的主流HVM技術(shù)加以推廣。
EV Group企業(yè)技術(shù)開發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)Markus Wimplinger稱：“我們很高興與Toppan Photomask合作，將納米壓印光刻技術(shù)引入主流制造應(yīng)用。作為以最高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)著稱的領(lǐng)先半導(dǎo)體光掩模供應(yīng)商，Toppan Photomask在使用滿足全球最嚴(yán)格生產(chǎn)要求的標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)方法方面擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)。此次是納米壓印工藝設(shè)備和服務(wù)提供商與納米壓印母版生產(chǎn)商之間的首次合作，對(duì)行業(yè)來說是一次巨大的勝利，我們將通過合作，幫助我們的客戶迅速擴(kuò)大NIL應(yīng)用，使之成為先進(jìn)光學(xué)設(shè)備和元件的批量生產(chǎn)技術(shù)，幫助他們將新的‘虛擬’構(gòu)思變?yōu)楝F(xiàn)實(shí)?！?/p>
即將舉行的納米壓印行業(yè)活動(dòng)
兩家公司的專家將參加9月19日至23日在比利時(shí)魯汶Gasthuisberg學(xué)術(shù)園區(qū)舉行的Micro and Nano Engineering (MNE) Eurosensors 2022 Conference大會(huì)，并在會(huì)上對(duì)此次合作進(jìn)行討論。與會(huì)者可參觀EVG的S8號(hào)展位，以獲取更多信息。
此外，EVG的Christine Thanner將出席于10月5日在日本富山舉行的納米壓印和納米印刷技術(shù)(NNT)會(huì)議，并將在全體大會(huì)上發(fā)表題為 “納米壓印—從小眾到大批量生產(chǎn)”的特邀演講，屆時(shí)她將闡述NIL母版制造技術(shù)、復(fù)制設(shè)備和工藝的匹配組合的重要性。
NILPhotonics能力中心：靈活的合作模式
EVG的NILPhotonics能力中心為整個(gè)NIL供應(yīng)鏈中的客戶和合作伙伴提供開放的創(chuàng)新孵化器，讓他們可以通過合作，縮短創(chuàng)新光電設(shè)備和應(yīng)用的開發(fā)周期及上市時(shí)間。該中心高度靈活，可滿足客戶的不同需求，同時(shí)確保為開發(fā)過程中的每個(gè)環(huán)節(jié)提供最高水平的IP保護(hù)。潔凈室旨在滿足最嚴(yán)格的客戶要求，并實(shí)現(xiàn)虛擬生產(chǎn)線概念，即將晶圓重新引入客戶的晶圓廠，以對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步加工。詳情請(qǐng)?jiān)L問：https://www.evgroup.com/products/process-services/nilphotonics-competence-center/。
